PL EN
Technical measures to reduce pollination and assessement of their effectiveness
 
More details
Hide details
1
Politechnika Wrocławska, Instytut Górnictwa
CORRESPONDING AUTHOR
Mariola Stefanicka
Politechnika Wrocławska, Instytut Górnictwa, Na Grobli 15, 50-421 Wrocław, Poland
 
Mining Science 2013;20:71–85
 
ABSTRACT
The article deals with the issues of pollination as a phenomenon that is harmful and commonly found in aggregates production plants. It points difficulties with spatial modelling and determination of scale of disorganized emission of dust within conditions of aggregate processing. Technical methods to reduce pollination and possibilities of their use in processing plants are being discussed. The article presents results of measurements of dust concentrations in real time for specific technical processes and an assessment of the effectiveness of applied technical solutions reducing pollination.
 
REFERENCES (7)
1.
Ankiety informacyjne programu badawczego „Badania skuteczności stosowanych technicznych rozwiązań ochronnych w górnictwie skalnym - w ograniczaniu zapylenia w środowisku kopalnianym”, praca statutowa Instytutu Górnictwa PW Nr I1100-S20065.
 
2.
Dokumentacja techniczna zakładu przeróbki kruszyw w Kopalni Granodiorytu Łażany.
 
3.
Dokumentacja projektowa zakładu przeróbki kruszyw w Kopalni Granitu Wieśnica.
 
4.
STEFANICKA M., 2012, Wybrane aspekty oceny ryzyka zawodowego na krystaliczną krzemionkę w górnictwie skalnym wg krajowych oraz europejskich standardów higienicznych, Prace Naukowe Instytutu Górnictwa PW, nr 134, Seria: Studia i Materiały, nr 41, Górnictwo i Geologia XVII.
 
5.
STEFANICKA M., WEIS M., WOJTASZEK T., 2013, Unikatowy zakład produkcji kruszyw granitowych w Kopalni Wieśnica, Prace Naukowe Instytutu Górnictwa PW, nr 136, Seria: Studia i Materiały, nr 43, Górnictwo i Geologia XIX, Wrocław 2013.
 
6.
WIĘCEK E., 2011, Kryteria zdrowotne pobierania próbek aerozoli w środowisku pracy, Podstawy i Metody Oceny Środowiska Pracy nr 2(68)/2011, CIOP Warszawa.
 
7.
www: bete-dysze.pl; ideasystem.com.pl; otech.pl.
 
eISSN:2353-5423
ISSN:2300-9586